実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社のMBE装置

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MBE装置

アリオスは、MBE装置の製造に20年以上の実績を有するプロ集団です。
アリオスのMBE装置は、基板サイズ1”~6”、Ⅲ-Ⅵ 族に対応。お客様の要求仕様に応じた、きめ細やかな設計・製造を行います。
また、分子線セルRHEEDBFM、基板加熱機構等の主要部品から制御ユニットまで、一貫して自社にて製造しています。 これにより、短納期・高品質の特注品製作が可能です。 装置のご相談はもちろん、メンテナンス・改造 などMBE装置でお困りのことがありましたらご相談ください。

特徴

  1. クリーンな真空での成膜が可能
    ―アリオスの超高真空技術に加え、分子線セル、基板加熱機構等の主要部品の 加熱脱ガス処理 を徹底しています。
  2. 選べる豊富なオプション
    ―RHEED、BFM、ラジカル源 など豊富にご用意しています。
  3. 排気操作、プロセス操作の自動運転
    ―タッチパネル、シーケンサーによる自動運転が可能です。
  4. 搬送系の利便性
    ―トロッコ搬送、トランスファー搬送に対応できます。また、自動搬送も可能です。
MBE装置02

仕様

排気系 イオンポンプ、ターボ分子ポンプ、TSP、クライオポンプ等、各種ポンプ の選択、組み合わせが可能
到達圧力 1×10-8 Pa以下 (成膜室にて液体窒素導入時)
基板回転加熱機構 最高 800℃ (高温仕様1000℃)、1"~6" 対応可能
分子線セル 標準 4~8本 取り付け (φ114CF)、5cc~100cc、高温~低温まで各種対応可能
材質 チャンバー本体 : SUS 304 (又は 304L 又は 316)
液体窒素シュラウド : SUS 316L
ベローズ部 : SUS 304
加熱部 : Mo 及び Ta、Al2 O3 、カーボン
真空内ヒーターリード線 : Ag (Au、Ni、Al)
用力 単相 : AC100V、三相 : AC200V
圧縮空気 (バルブ作動用) : 0.5~0.7MPa
乾燥窒素 (大気解放用) : 0.1~0.5MPa
液体窒素 : 0.05MPa

参考資料

取り付け可能なコンポーネント

RHEED分子線セルマイクロ波イオン源 など全てアリオス自社製品のため柔軟な対応が可能です。

スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置の改造,特殊仕様,修理も承っています。 お問合せは、スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置のプラズマ・真空技術の専門メーカーのアリオスへ。