実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社のマイクロ波プラズマ実験装置

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マイクロ波プラズマ実験装置

マイクロ波プラズマ実験装置 MiPC-1000

概要

アリオスでは マイクロ波 を用いたプラズマ実験装置の製作を承っております。プラズマ源やマイクロ波電源を含め、全て自社設計する当社だからこそ可能な柔軟設計により、お客様の要求仕様に応じて設計、製造致します。
DLC膜、カーボンナノチューブ、プラズマ殺菌、真空紫外照射、その他のプラズマ暴露実験ができるマイクロ波実験装置など、多種に渡り製作が可能です。
プラズマについては プラズマに関しての実践的テクニックプラズマ Q&A で詳しく説明しております。ぜひ併せてご覧下さい。

特徴

  1. 基板移動機構により、基板とプラズマの位置を任意に設定できますので、様々なプロセスに対応します。
  2. プラズマ中に基板を挿入すれば、プラズマにより加熱されますので、ダイヤモンド薄膜作製時にヒーターは不要です。
    温度上昇を避けたい場合は、基板を遠ざけリモートプラズマ方式が可能です。
  3. 排気装置はターボ分子ポンプ仕様標準で、オプションによりロータリーポンプ仕様も可能です。

仕様

プラズマ源 石英導波管直交方式
マイクロ波出力電力 0~1000W (2.45GHz ± 50MHz)
基板 φ20mm 基板対応
真空計 コールドカソードピラニ-ゲージ、キャパシタンスゲージ
到達真空度/到達圧力 5.0×10-4 Pa以下 (ターボ分子ポンプ使用時)
リーク量 1.0×10-8 Pa・m3/sec以下 (Oリング 透過分を除く)
ガス種 H2 、Ne、N2 、Ar、O2 、CH4 、etc...
試料交換 交換用ハッチ
基板上下機構 ストローク 235mm
基板加熱機構 最高加熱温度 1000℃
本体架台 キャスター、アジャスター付き (電源部を含む)
重量 約150kg
用力 AC100V 20A、AC200V 3相 20A
プロセスガス:SwagelokTM 1/4 又は VCRTM 1/4

外観寸法図

オプション

  • アンテナ型マイクロ波プラズマ源
  • 基板上下機構ストローク変更
  • ロータリーポンプのみ
  • 基板バイアス電源
  • 基板対応サイズ変更
  • ロードロック機構


※標準仕様以外にも、要求仕様に応じ設計製作致します。
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