実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社のプラズマCVD実験装置

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プラズマCVD実験装置PCVD-R100

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

概要

CVDとは Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分で成膜することを指します。 様々な方式がありますが、よく使われているのは熱あるいはプラズマを使う方法です。プラズマ生成にも周波数の違いによって各種あります。 詳細は マイクロ波 (2.45GHz) vs RF (13.56MHz) をご参照下さい。
アリオスでは各種のプラズマ CVD装置を設計、製造しております。
本装置は実験用 MO原料対応プラズマ CVD装置で、RFプラズマ源、基板加熱機構、ガス供給系、ロードロック室などを搭載しており、各種原料ガスをプラズマ処理し基板上に薄膜を成膜可能です。

特徴

  1. アリオスの高真空技術を駆使しており、クリーンな真空での成膜実験が可能です。
  2. コンパクトチャンバー+シンプルな構成により、容易にメンテナンスが可能です。
  3. 基板加熱機構は耐熱、耐ガス特性に優れた材料により、長時間安定な加熱が可能です。
  4. 基板導入はロードロック機構により大気開放することなく極めて簡単に、かつ短時間に行えます。

仕様

プラズマ源 RF : 0~500W 可変+自動マッチングBOX (誘導結合もしくは容量結合)
反応管 : φ40×36 石英管
反応室 SUS 304製
ロードロック室 SUS 304製
ハッチポート+Oリング式トランスファーロッド
基板サイズ ~φ100
基板加熱機構 最高加熱温度 : 900℃
基板位置 : 上下可変
電源 : DC電源+温度調節器
真空排気系 ロードロック室 : TMP+RP
反応室 : RP+トラップ
ガス供給系 MFC+バルブ類
本体架台 キャスター、アジャスター付き
用力 三相 AC200V 60A
単相 AC100V 10A
冷却水 1 L⁄min

オプション

※標準仕様以外にも、要求仕様に応じて設計製作致します。
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  メンテナンス・改造

スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置の改造,特殊仕様,修理も承っています。 お問合せは、スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置のプラズマ・真空技術の専門メーカーのアリオスへ。