実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社のRFプラズマ源

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RFプラズマ源 ERFS-501

RFプラズマ源 ERFS-501

概要

窒素ラジカル源としての放電スペクトル RF電力:400W

窒素ラジカル源としての放電スペクトル
RF電力:400W

このプラズマ源はICPタイプの RF高密度プラズマ により、各種原料ガスを処理し、成膜実験、エッチング実験などにご使用頂けます。
プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属汚染の少ないプロセスが可能です。
活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、クリーンな原子・ラジカルビームなどを得ることができます。
マイクロ波プラズマ源とのプラズマ密度や給電方法等の違いについては マイクロ波プラズマ源とRFプラズマ源の違い① をご覧下さい。

特徴

  1. ビューイングポートにより高精度の プラズマ発光分光 などが可能です。
  2. 自動マッチング機構により、操作が簡単であり、長時間安定した動作が可能です。
  3. 空冷仕様になっており冷却水は不要のため、既設装置などへ気軽に取り付けられます。
  4. 窒素ラジカル原子のスペクトルデータを確認しており、窒素ラジカル源としてご使用頂けます。

システム構成図

RFプラズマ源システム構成図

仕様

本体仕様

型式 ERFS-501
RF出力 0~500W 13.56MHz ± 1kHz
整合器 自動整合器 (手動コントローラー添付)
ベーキング温度 最高 150℃ (ケーブル、整合器部分を除く)
プラズマ励起方法 コイル誘導結合 (ICP)
放電室材質 透明石英製
最大出射口径 φ28mm
ガス導入系 1/4 VCRTM オス
冷却方法 強制空冷
接続フランジ VG80 又は CF114
質量 約9.5kg

外観寸法図

RF電源仕様

型式 RP-502
電源入力 単相AC100~240V 50/60Hz
最大消費電力 750W
出力周波数 13.56MHz ± 1kHz
出力電力 0~500W (500W 連続)
出力インピーダンス 50Ω (N型コネクター)
リモート出力制御 0~5V DC外部入力によるリニア制御
出力表示モニタ出力 デジタル表示 0~5V DCリニア出力
冷却方法 強制空冷
保護機能 過負荷保護機能
高反射による出力制限
外部インターロック
質量 5.0 kg
標準添付品 出力ケーブル (7m)、電源ケーブル (3m)

標準構成

オプション

プラズマ源 バリアブルリークバルブ、MFC ガス導入系に制御機器が増設可能です。
ガス種、ガス流量などご注文時にご相談下さい。
分光器 放電スペクトルをモニターします。
RF電源 パルス駆動 (100Hz~20kHz) 外部信号による ON/OFF パルス制御が可能です。
入力100V 入力電源を 100Vでご使用の場合はご指定下さい。
ケーブル ケーブル延長
※ご注文時お問い合わせ下さい。
電源本体、整合器間の出力、コントロールケーブルの延長

スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置の改造,特殊仕様,修理も承っています。 お問合せは、スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置のプラズマ・真空技術の専門メーカーのアリオスへ。