実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社のイオン注入装置

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イオン注入装置

概要

物質をイオン化し、電界によって加速し、基板表面に打ち込む装置をイオン注入装置と呼んでいます。
本装置は金属、有機フィルム、ガラスなどの表面処理のためのイオン注入装置です。イオン源と試料室が直結しているため、イオン源からのガスで IBD (Ion Beam Deposition) も可能な構成となっています。 独創技術と表層改質のノウハウにより、コンパクトで実効性のあるコストパフォーマンスに優れたイオン注入装置を製作しております。
イオン注入法の特徴や実際にイオン注入した炭素材料の特性の変化については 資料館 イオンビームとその応用 をご覧下さい。

特徴

イオン注入装置
  1. 処理による形状変化がほとんどありません。(例:<1μm)
  2. 膜と母材との間に界面がありませんので、改質層は剥がれません。
    密着性の良好なDLC (ダイヤモンドライクカーボン) 膜が作製できます。
  3. 処理温度が低いため、母材への影響が小さく抑えられます。(例:<200℃)
  4. 硬化処理、腐蝕性、生体適合性などの改善が報告されています。
  5. 用途、応用例:
    錆びない包丁、ドリル刃、ダイス、スリッターナイフなどの硬化処理、
    超精密金型の寿命、離型の改善、クランクシャフトなどの初期摩耗の改善、その他の表面修飾。

仕様

イオン源 マイクロ波励起イオン源
加速電圧 ~10kV
イオン電流 2mA
供給ガス H2 、N2 、O2 、CH4 、Ar、Ne、etc
処理面積 100cm2
処理時間 20分
ターゲットホルダー 大きさ:100×100mm θ 及び 自転
排気装置 ロータリーポンプ、油拡散ポンプ
制御システム 真空排気/シーケンサー制御
プロセス/手動

オプション

  • 電子ビーム蒸着源
  • 膜厚計、電流積分器 (注入量測定)、オイルフリー排気装置

※標準仕様以外にも、要求仕様に応じ設計製作致します。
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