実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカーのアリオス株式会社の真空アニール装置

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真空アニール装置

真空アニール装置

装置概要

本装置は 3"~8" 基板及び、真空部品などを真空中で 200~600℃まで加熱するための高真空加熱装置 (アニール炉) です。イオンビームダメージ回復などのアニールや真空脱ガス処理にも最適です。
製造工程と高温ガス処理超高真空に追い込むにはでもご紹介していますが、所定の真空度に到達させるためには超高真空容器内で使用する部品の真空脱ガス処理も重要です。
イオンビームの特徴や試みについては イオンビームとその応用 をご覧下さい。
一括処理枚数、基板サイズのご相談承ります。→お問い合わせ(042-546-4811)

特徴

  1. カーボンヒーターにより、高温加熱が短時間で可能です。
  2. ターボ分子ポンプによる排気で、クリーンな真空加熱が可能です。
  3. ガス導入系を装備しおり、各種ガス雰囲気中 (0.5Pa以下) での加熱が可能です。
  4. 排気操作はタッチパネル操作による自動運転です。
  5. 熱電対又は、パイロメーターにより加熱温度を PID制御します。

仕様

到達圧力 5×10-6 Pa以下
加熱温度 最高 600℃ (面内均一性 ± 10℃以内)
ガス導入系 最大 6系統 (バリアブルリークバルブ、VCR接続)
用力 単相 AC200V 50A
単相 AC100V 20A
圧縮空気 (バルブ作動用) 0.5~0.7MPa
乾燥窒素 (大気解放用) 0.1~0.5MPa
設置面積 約 1400 (W) × 1000 (D) mm
重量 約 500 kg

※標準仕様以外にも、
要求仕様に応じて設計製作致します。
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