実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカー アリオス株式会社のマルチポイントラングミュアプローブ測定システム

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マルチポイントプローブ

マルチポイントラングミュアプローブ測定システム

概要

ラングミュアプローブ方式により、プラズマパラメーターを多点で測定するシステムです。 ターゲットあるいはサンプル上の 各種プラズマパラメーター 分布測定に便利です。
マルチポイント対応の処理ソフトウェアLMP-100SCANにより効率よく測定ができます。
プラズマ測定や診断に関するQ&Aは 相談室 ラングミュアプローブ に掲載しております。併せてご覧下さい。
ラングミュアプローブシステム ご購入までの流れ でお困りの際は、お気軽に お問い合わせ 下さい。

特徴

  1. マルチポイントラングミュアプローブにより多点でのプラズマパラメーター測定が可能になるため、これらの分布が容易に測定できます。
  2. 測定点数を 1~100点まで自由に選択することが可能です。
  3. 選択した測定点数に応じて、多点切換ユニットも2種類用意しております。
  4. ソースメジャーユニットは 4種類の中から選択できます。(お手持ちの同機種をご使用頂けます)

システム構成

マルチポイントラングミュアプローブ自動測定構成

装置構造やシステム全体図、 このシステムで得られたパラメータ分布については 資料館 9×9 マルチポイントラングミュアプローブ をご覧下さい。

仕様

形状、プローブ点数など仕様に合わせたかたちで製作致します。是非 お問い合わせ 下さい。


処理ソフトウェア  LMP-100SCAN

概要

マルチポイントラングミュアプローブから自動的にデータを取り込み、プラズマパラメーターの分布測定を行う処理ソフトウェアです。
詳しくは 資料館 LMP-100SCAN をご覧下さい。

プラズマパラメーター自動処理ソフトウェア  LMP-100SCAN01 ラングミュアプローブ 処理ソフトウェアLMP-100SCAN

特徴

プラズマパラメーター の算出は自動、手動での解析が選択できます。
自動算出では画像解析の技術を応用したカーブフィッテングを採用し、高い精度でのプラズマ密度、電子温度、プラズマ電位及び電子電流の解析を実現しました。 手動算出ではマウス操作によるフィッテング修正も可能で、I-V グラフ上にカーブを合わせて2直線を引くことで解析できます。

仕様

パーソナルコンピューター (PC) 動作環境 OS : お問い合わせ下さい
CPU : Pentium4 又は MTM 2GHz以上 (Core2DuoTM 2.6GHz、相当を推奨)
ディスプレイ解像度 : 1024×768 ピクセル以上
メモリ : 1GB以上 (2GB以上を推奨)
HDD 空き容量 : 2GB以上
ポート : USB2.0 ポート×2
解析可能なプラズマパラメータ プラズマ密度 [個/cm3] (1×108~1×1013個/cm3)
電子温度 [eV] (10eV まで)
電子エネルギー分布関数 (EEDF) [eV-3/2/cm3
飽和イオン電流 [mA] (使用電源に依存※)
飽和電子電流 [mA] (使用電源に依存※)
プラズマ電位 [V] (使用電源に依存※)
※弊社推奨電源GS610 では電圧±100V、電流±500mA
ソフト機能 自動測定
測定点自動切換
最大測定点数100点 (10×10)
データファイル出力 (CSV 形式)
3D分布グラフ表示 (2D 表示も可能)
電圧電流特性リアルタイムモニタ
電極面積設定
日本語表記

取扱説明書

スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置の改造,特殊仕様,修理も承っています。 お問合せは、スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置のプラズマ・真空技術の専門メーカーのアリオスへ。