粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。
試料ホルダの回転運動により試料を撹拌させることで凝集を防ぎ、均一かつ効率的にスパッタ成膜が可能です。

成膜チャンバー		φ360mm×L350mm(内寸) / SUS304 JIS350ハッチ機構
主な搭載機器		矩形マグネトロンカソードユニット試料ホルダ
排気系統(一例)		ターボ分子ポンプ(355L/s) ロータリーポンプ(203L/min) クリスタルイオンゲージ、隔膜真空計
到達圧力		5×10^-4Pa以下(チャンバー内が空の状態にて)
カソードユニット	ターゲット寸法	50mm×150mm×t5mm(磁性体はt1mm)
	冷却方法	水冷(接点付き流量計)
	DC電源出力	MAX 1kV・1.2A(1200W)可変
試料ホルダ	サイズ・形状	ドラム形状(円筒型) φ250mm×L180mm(内寸)
	処理容量	0.5/1バッチ（試料直径：φ0.5mm）
	ホルダ材質	SUS304
	回転機構	モータ駆動(0-20rpm可変)