アリオス株式会社 RFプラズマ実験装置


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RFプラズマ実験装置

RFプラズマ実験装置　RFPC-550

概要

本装置は実験用RFプラズマ装置で、RFプラズマ源、基板加熱機構、ガス供給系、ロードロック室より構成しており、各種原料ガスをプラズマ化し、基板処理が可能です。ガス種・ガス圧などの条件を変化させることにより、広範囲なプラズマ処理実験が可能です。
RFプラズマについてご不明点等ございましたら、お気軽にお問い合わせ下さい。
プラズマ源を自社設計する当社だからこそ可能な柔軟設計。お客様の要求仕様に応じて設計、製造致します。

特徴

  1. 自動マッチングにより簡単操作になっております。
  2. コンパクトチャンバー＋シンプルな構成により、容易にメンテナンスが可能です。
  3. RFに対する高電圧感電防止のためのインターロック (真空の時のみRFが印加可能) を装備しています。
  4. 高周波漏洩対策、停電などに対しても安全に停止するような機構を装備しています。
  5. オプションでロードロック機構を追加可能です。基板導入は大気開放することなく極めて簡単に、かつ短時間に行えます。

仕様

プラズマ源 RF ： 0～500W 可変＋自動マッチングBOX (手動チューニング可能)
(誘導結合 又は 容量結合、反応管 ： φ40×36 石英管)
RF出力電力 0～550W (13.56MHz±1kHz)
処理室 SUS 304 製
ロードロック室 SUS 304 製　ハッチポート＋Oリング式トランスファーロッド
基板ホルダー 材質 ： アルミ、240mm×300mm (MAX)、RF 印可電極
対向電極 材質 ： アルミ、240mm×300mm (MAX)、上下駆動 Oリング式・手動
真空排気系 メインポンプ　RP＋オイルミストトラップ
ガス供給系 ニードルバルブ　2系統 (又は マスフローコントローラー)
真空計 サーモカップル真空計 (又は ダイヤフラムゲージ)
本体架台 キャスター、アジャスター付き (電源部を含む)、本体重量 約300kg
電源部 ブレーカBOX 1式、RPスイッチパネル 1式、真空計コントローラ 1式、RF電源
用力 AC200V 3相 20A(最大)
プロセスガス ： 不活性ガス　SwagelokTM 1/4 又は VCRTM 1/4　2系統
※標準仕様以外にも、要求仕様に応じ設計製作致します。

参考資料

製品カタログ
ダウンロード(PDF:490KB)

オプション

規格品以外にも、特殊仕様の製作も可能です。下記よりお問い合わせください。

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