実験/量産用 プラズマ・真空装置メーカー アリオス株式会社 超高真空排気装置

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超高真空排気装置  UHVPS

超高真空排気装置 UHVPS

概要

超高真空排気装置の製造には、材料選定、溶接、洗浄、表面研磨及び表面処理からハンドリングに至るまで、多くの技術が必要です。 アリオスは 分子線セルMBE装置 などで培った、超高真空装置製造技術を活かし、各種超高真空排気装置の製作を承っております。既にお使いのお客様には短時間での超高真空への到達などご好評を頂いております。
本装置はメインチャンバーに試料交換用の ハッチ を搭載しており、各種プラズマ源、加熱機構、蒸着源、ガス供給系など各種のコンポーネントを組み合わせて、多様な実験にご使用頂けます。
超高真空について 用語集 超高真空 で簡単に説明しております。ぜひご覧下さい。

特徴

  1. クリーンな 真空 をベースに、成膜やエッチングなど多くの実験に使用できます。
  2. コンパクトチャンバー+シンプルな構成により、容易にメンテナンスが可能です。
  3. 最小限の構成、完全手動タイプにより低コストで導入できます。
  4. 各種オプションの搭載によりカスタマイズが可能です。

仕様

チャンバー SUS 304製 (内面鏡面仕上げ、電解研磨処理)
ロードロックハッチ SUS 304製 Oリング式
ターボ分子ポンプ 排気速度 : 260~355 L/sec (N2 、保護金網付き) ファイファー社TM 製 又は
220~350 L/sec (N2 、保護金網付き) 大阪真空機器製作所TM
制御電源 : デジタルコントロールによる監視・保護機能搭載
ロータリーポンプ 排気速度 : 250 L/min
電動機出力 : 0.45 kW
チャンバー到達圧力 1×10-4 Pa 以下 (チャンバー内の負荷がない状態)
リーク量 6.7×10-11 Pa・m3/sec 以下
真空計 コンパクトフルレンジ CCゲージ
本体架台 キャスター、アジャスター付
用力 電源 : 単相 200V/15A (最大)
圧縮空気 : 圧力 0.4~0.6 MPa (接続径 Rc 1/4)
寸法、重量 寸法 (500mm×600mm H 1100mm)、本体約 60 kg

外観寸法図

オプション

※標準仕様以外にも、要求仕様に応じて設計製作致します。
研究開発受託業務・コンサルティング

スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置の改造,特殊仕様,修理も承っています。 お問合せは、スパッタ,CVD,ダイヤモンド,各種成膜装置のプラズマ・真空技術の専門メーカーのアリオスへ。