アリオス株式会社 真空アニール装置

真空アニール装置

装置概要

本装置は3"～8"基板及び、真空部品などを真空中で200～600℃まで加熱するための高真空加熱装置(アニール炉)です。イオンビームダメージ回復などのアニールや真空脱ガス処理にも最適です。
製造工程と高温ガス処理、超高真空に追い込むにはでもご紹介していますが、所定の真空度に到達させるためには超高真空容器内で使用する部品の真空脱ガス処理も重要です。
イオンビームの特徴や試みについてはイオンビームとその応用をご覧下さい。
一括処理枚数、基板サイズのご相談承ります。→お問い合わせ(042-546-4811)

特徴

1. カーボンヒーターにより、高温加熱が短時間で可能です。
2. ターボ分子ポンプによる排気で、クリーンな真空加熱が可能です。
3. ガス導入系を装備しており、各種ガス雰囲気中(0.5Pa以下)での加熱が可能です。
4. 排気操作はタッチパネル操作による自動運転です。
5. 熱電対、又はパイロメーターにより加熱温度をPID制御します。

仕様

規格品以外にも、特殊仕様の製作も可能です。下記よりお問い合わせください。

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