IRFS-301は最大300Wの電源を搭載しておりますが、IRFS-504と比較するとスリムかつ低出力のラジカルビーム源です。そのためIRFS-504よりもお求めやすい価格設定となっております。
基本的な構成はIRFS-504と同じで、放電部、引き出し部は高純度PBN(窒素用)で製作しており、活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることができます。
窒化膜の生成については窒化膜生成をご覧下さい。
型式 | IRFS-301 |
放電室 | PBN製 (又は 石英製-酸素用) |
最大出射口径 | φ15mm |
ベーキング | 最大 200℃ (整合器ケーブル除く) |
ガス導入口 | 1⁄4 VCRTM オス |
接続フランジ | φ114CF |
整合器 | 自動整合器 |
冷却方法 | ラジカル源部 : 水冷 (0.5 L⁄min 以上)
1⁄4 SwagelokTM 又は Rc 1⁄8 接続 整合器部 : 強制空冷 |
質量 | 9.5 kg |
型式 | RP-301 |
電源入力 | 100~240V AC単相 50/60Hz (出荷時設定) |
最大消費電力 | 450W |
出力周波数 | 13.56MHz ± 1kHz |
出力電力 | 0~300W (300W 連続) |
出力コネクタ | BNC |
リモート出力制御 | 可 |
出力表示モニタ出力 | デジタル表示 0~5V DCリニア出力 |
冷却方法 | 強制空冷 |
保護機能 | 過負荷保護機能 高反射による出力制限 外部インターロック |
質量 | 2.9 kg |
標準添付品 | 出力ケーブル (7m)、電源ケーブル (3m)、冷却水用インターロックケーブル (7m) |
ラジカルビーム源 | ・イオンキャンセル電極 ・電源 |
2枚電極に ±500V 印加し、イオン・電子をキャンセルします。 |
バリアブルリークバルブ、MFC | ガス導入系に制御機器が増設可能です。 ガス種、ガス流量等ご注文時にご相談下さい。 |
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分光器 | 放電スペクトルをモニターします。 | |
制御ソフト RP-322用 | RF制御ソフト、RFコントローラ | PCにより、RF電源と整合器を制御し、 プラズマを精密にコントロールします。 |
ケーブル | ケーブル延長 ※ご注文時お問い合わせ下さい。 |
電源本体、整合器間の出力、コントロールケーブルの延長 |
MBE装置において、分子線セルシャッタータイミングとラジカル源のRF電力を制御し、励起プラズマモードを適切に選択することにより、高品質な窒化化合物エピタキシャル成長膜形成が可能になります。
このシステムは設定に従いRF電源の出力を HIGH/LOW に繰り返し制御します。繰り返し時間・タイミングの設定も可能です。また、整合器を制御し、ミスマッチングを防止します。
規格品以外にも、特殊仕様の製作も可能です。下記よりお問い合わせください。
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